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专利名称：气相外延装置和气相外延方法专利类型：发明专利发明人：左然,徐永亮,刘自强申请号：CN201110108818.1申请日：20110428公开号：CN102181923A公开日：20110914
摘要：本发明公开了一种气相外延装置和气相外延方法，公开的气相外延装置包括反应腔和设于所述反应腔内部的若干反应气体喷淋头、所述若干反应气体喷淋头位置对应的若干托盘，以及驱动所述托盘的动力轴，所述动力轴包括公转轴和若干自转轴，所述自转轴与所述托盘一一对应；各所述托盘与各所述自转轴连接，或交替地与所述公转轴和各所述自转轴连接。利用本发明所提供的气相外延装置和气相外延方法，既可以有效减少化学气相外延时流动失稳，减少寄生反应的发生；又可以有效解决量子阱的厚度控制问题，为不同的异质结生长过程提供不同的选择，提高了半导体元件的质量。
申请人：浙江昀丰新能源科技有限公司
地址：321037 浙江省金华市金东区傅村镇杨家村
国籍：CN
代理机构：北京集佳知识产权代理有限公司
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