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专利名称：X光曝光区域的调节方法、装置、X光设备及存储
介质
专利类型：发明专利发明人：宫辉,唐奥林,周超申请号：CN201710369472.8申请日：20170523公开号：CN1037998A公开日：20181207
摘要：本发明公开了X光曝光区域的调节方法、系统、X光设备及存储介质。方法包括：在准直器处于第一开口时，获取待检目标对象在准直器灯打开状态下和关闭状态下的两张图像；在两张图像中进行图像识别，获取第一开口对应的光影图，以及位于光影内的目标对象图；从光影图中提取光影轮廓，从目标对象图中提取目标对象轮廓，并叠加得到第一目标曝光区域；根据目标对象轮廓，调整所述光影轮廓，得到第二目标曝光区域；根据第二目标曝光区域相对于第一目标曝光区域的尺寸变化，将第一开口调节为第二开口。本技术方案处理速度快，成功率高。
申请人：上海西门子医疗器械有限公司
地址：201318 上海市浦东新区周祝公路278号
国籍：CN
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