硅栅自对准工艺需要几张掩膜

来源：华佗养生网

一张。硅栅自对准工艺是一种晶圆制造工艺，需要一张掩膜，通过在硅层上定义一种特殊的结构，以达到自动对准的效果，这种工艺在半导体微电子封装中广泛应用，通过在硅层上刻蚀出两个扩散窗口，杂质经窗口热扩散到硅单晶片内，形成源和漏扩散区，同时形成导电的多晶硅栅电极，其位置自动与源和漏的位置对准。

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